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2015年我國LED照明產(chǎn)業(yè)發(fā)展藍(lán)皮書
2015/8/19 8:33:34 來源:中國產(chǎn)業(yè)發(fā)展研究網(wǎng) 【字體:大 中 小】【收藏本頁】【打印】【關(guān)閉】
核心提示: 近兩年LED產(chǎn)業(yè)爆發(fā)式增長,成為各路資金追捧的對象。然而不容回避的是,我國LED產(chǎn)業(yè)的瘋狂擴(kuò)張主要聚集于襯底和芯片、封裝等產(chǎn)業(yè)鏈的低端,而高技術(shù)、高附加值的高近兩年LED產(chǎn)業(yè)爆發(fā)式增長,成為各路資金追捧的對象。然而不容回避的是,我國LED產(chǎn)業(yè)的瘋狂擴(kuò)張主要聚集于襯底和芯片、封裝等產(chǎn)業(yè)鏈的低端,而高技術(shù)、高附加值的高端LED材料以及外延領(lǐng)域,國內(nèi)企業(yè)則鮮有涉足。能否順利進(jìn)入產(chǎn)業(yè)鏈高端成為決定國內(nèi)LED產(chǎn)業(yè)未來發(fā)展前景的關(guān)鍵性因素。
令LED人士倍受鼓舞的是,今年初的時(shí)候,國家就給LED行業(yè)打了一劑強(qiáng)心針——藍(lán)寶石LED材料外延及芯片技術(shù)榮獲國家科學(xué)技術(shù)進(jìn)步獎(jiǎng)。技術(shù)創(chuàng)新才是未來LED企業(yè)競爭力的關(guān)鍵,也是LED突破產(chǎn)業(yè)瓶頸,進(jìn)行產(chǎn)業(yè)升級(jí)的關(guān)鍵。

我國LED產(chǎn)業(yè)現(xiàn)狀
典型LED器件如下圖所示,通常采用外延方法在襯底材料上生長出晶體缺陷密度低的LED器件層,通過光刻、刻蝕、濺射等半導(dǎo)體生產(chǎn)工藝得到一定的器件形狀和構(gòu)造,并形成良好的電接觸膜,這就是LED芯片。對LED芯片進(jìn)行封裝,可以避免LED芯片受到外界損傷,并很好地導(dǎo)入電和導(dǎo)出發(fā)光,從而形成一個(gè)完整的LED產(chǎn)品。

LED結(jié)構(gòu)主要為一個(gè)PN結(jié),需要由穩(wěn)定的P型與N型材料制成,如硅(Si)、鍺(Ge)等通過摻雜磷(P)、砷(As)、銻(Sb),GaN,GaP,GaAs通過摻雜銦(In)等形成N型半導(dǎo)體;Si摻雜硼(B),GaN、GaP、GaAs等摻雜鋁(Al)等形成P型半導(dǎo)體。另外,在PN結(jié)兩邊還需要電極材料,如采用ITO等。
LED產(chǎn)業(yè)鏈主要包括襯底、外延、芯片、封裝、應(yīng)用等環(huán)節(jié)。具體剖析開來,LED產(chǎn)品的關(guān)鍵材料集中于襯底、外延芯片以及封裝環(huán)節(jié)。

襯底材料
LED襯底材料眾多,市場上大規(guī)模商用的LED襯底材料是GaAs、藍(lán)寶石和SiC,同時(shí)Si襯底和GaN同質(zhì)襯底也成為關(guān)注熱點(diǎn)。
在GaAs領(lǐng)域,我國具有一定的實(shí)力,普亮紅、黃光LED中目前襯底材料基本實(shí)現(xiàn)了國產(chǎn)化,而高亮度和超高亮度紅光LED襯底材料主要依靠進(jìn)口,與國際水平仍存在一定的差距。
藍(lán)寶石襯底材料以其生產(chǎn)技術(shù)成熟、器件質(zhì)量好、穩(wěn)定性高、易于處理和清洗等優(yōu)點(diǎn),被國內(nèi)企業(yè)廣泛使用。然而,藍(lán)寶石襯底也存在一些問題,首先藍(lán)寶石襯底與GaN外延層的晶格失配和熱應(yīng)力失配較大;同時(shí),藍(lán)寶石的導(dǎo)熱性能不是很好,會(huì)增加大功率LED器件封裝散熱成本。
為了提升器件的導(dǎo)熱性和導(dǎo)電性,出現(xiàn)了SiC和Si襯底。SiC襯底材料的導(dǎo)熱性能要比藍(lán)寶石襯底高出10倍以上,同時(shí)這種襯底不需要電流擴(kuò)散層,因此光不會(huì)被電流擴(kuò)散層的材料吸收,有利于提高芯片的出光效率,但其制造成本非常高,產(chǎn)品價(jià)格差不多是同尺寸藍(lán)寶石襯底的10倍。Si襯底材料質(zhì)量高、尺寸大、材料成本低、加工工藝成熟,并具備良好的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性和熱穩(wěn)定性等,但Si與GaN之間存在巨大的晶格失配度和熱失配,同時(shí)Si對可見光吸收嚴(yán)重,LED出光效率低。
近兩年,我國在Si襯底上生長GaN外延技術(shù)進(jìn)展很快,尤其是在6英寸、8英寸等大尺寸Si襯底上生長GaN外延,可大幅降低LED芯片制造成本。目前看來Si襯底技術(shù)有望實(shí)現(xiàn)大規(guī)模商用。
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