佳能將于2022年7月下旬發售FPD(Flat Panel Display)曝光設備新品“MPAsp-H1003H”。作為支持第8代玻璃基板尺寸*1的FPD曝光設備新產品，“MPAsp-H1003H”擁有1.5μm*2(L/S*3)的分辨率和±0.35μm的套合精度。

FPD曝光設備“MPAsp-H1003H”

近年來，隨著遠程辦公需求的激增與在線教育的迅速普及，筆記本電腦、平板電腦等IT設備所用顯示器的需求也在持續增長。此外，由于電動汽車的普及與自動駕駛技術的不斷進步，更輕薄、高清優勢的車載顯示器預計也將迎來市場需求的進一步增長。

雖然在第6代玻璃基板*4上目前已經實現這類高清顯示器面板的量產。從一片玻璃能夠生產出更多顯示面板的觀點出發，第8代玻璃基板的市場需求也在不斷增加。本次發售的FPD曝光設備“MPAsp-H1003H”支持了第8代玻璃基板，同時兼顧1.5μm的分辨率和±0.35μm的套合精度，有助于提高應用在IT設備顯示器上的面板的生產效率。

第8代玻璃基板上實現1.5μm高分辨率

本次發售的新產品沿用了針對第8代玻璃基板研發的FPD曝光設備“MPAsp-H1003T”(2018年10月推出)所搭載的投影光學系統，可實現對65英寸面板的一次曝光。此外，新產品還搭載了第6代玻璃基板的曝光設備“MPAsp-E813H”(2014年9月推出)所使用的超分辨技術*5，該技術經驗證，可以實現1.5μm的高分辨率。在多種技術加持下，新產品既可以滿足IT顯示器用面板的高分辨率需求，又可以實現大型顯示器所需的最大65英寸無拼接式面板的制造。

兼顧高生產性與高套合精度

通過對趨于成熟的高速載臺技術的升級和改進，并不斷提高了玻璃基板載臺的性能，本次發售的FPD曝光設備“MPAsp-H1003H”與上一代產品“MPA sp-H1003T”相比，實現生產效率約20%的提升。此外，通過結合“MPAsp-E813H”中經實績驗證的定位方式和倍率校正機構，新產品可實現±0.35μm的套合精度，與上一代產品“MPAsp-H1003T”相比提高了約20%。

增強各類制造工序的工藝對應能力

新產品配備了包含超分辨率技術照明模式的切換構件和穩定曝光線寬的自動曝光狹縫調整(SIC)構件，強化了多樣化制造工序的工藝對應能力，提供了更穩定的制造質量。

*1尺寸2,200×2,500mm的玻璃基板，目前主要用于電視顯示器的面板制造。

*2 1微米是1米的百萬分之一(=千分之一毫米)。

*3 Line and Space和縮寫。Line和Space均勻分布的圖案。

*4尺寸1,500×1,850mm的玻璃基板，用于制造以智能手機為代表的中小型顯示器面板。

*5控制光的相位和強度以提高曝光裝置分辨率的技術。

**為方便讀者理解，本文中佳能可指代：佳能光學設備(上海)有限公司，佳能(中國)有限公司，佳能股份有限公司，佳能品牌等

主要優點：

在第8代玻璃基板上實現1.5μm的高分辨率

與第8代玻璃基板的前代曝光設備“MPA sp-H1003T”的2.0μm相比，通過采用第6代玻璃基板曝光設備“MPA sp-E813H”中久經考驗的超分辨率技術，新產品更進一步實現了1.5μm的高分辨率的曝光。

新產品還沿用了第8代玻璃基板的曝光設備“MPA sp-H1003T”的廣曝光視角，實現對65英寸面板的一次曝光。

兼顧高生產率和高套合精度

與“MPA sp-H1003T”相比，通過改進高速載臺技術，提高玻璃基板載臺的性能，新產品的生產效率提高了約20%。

新產品搭載了曝光設備“MPA sp-E813H”中經實績驗證的倍率校正機構。對于在制造工序中形成多層時產生的基板形變，通過高精度校正驅動來進行準確地套合曝光。

采用在曝光設備“MPA sp-E813H”中經實績驗證的定位方式，新產品通過對每塊面板進行多點同時測量，在不降低生產效率的情況下有效提高測量精度，實現±0.35μm的套合精度。

增強各類制造工序的工藝對應能力

新產品的照明模式可以根據需要曝光的圖案進行切換，從而適配各類制造工序的曝光。通過光學元件的不同組合，可以從適合重復類圖案的“Annular模式”、適合孤立類圖案的“Conventional 2模式”和適合需要高照度的圖案的“Conventional 3模式”中進行選擇。

在形成圓弧光的機構中，新產品配備有曝光狹縫自動調整機構(SIC：Slit Illuminance Control)。通過自動控制光線通過的狹縫寬度，可以改變曝光光線的強度分布，從而實現穩定的曝光線寬。

關于規格

關于產品規格的詳細信息，請參閱佳能主頁。

關于佳能FPD曝光設備的工作機制

佳能的FPD曝光設備采用鏡面投影方式。鏡面投影單元由大凹面鏡、小凸面鏡和梯形鏡組成。通過將光照射在單元上方的光掩模上，光掩模上的電路圖案就可以在經過5次反射后準確地轉印在玻璃基板上。約1μm(1mm的千分之一)的精細電路圖案轉印到大型玻璃基板上時，凹面鏡特別關鍵。目前只有兼具尖端光學技術和生產技術的佳能才能研發生產直徑約1.5米的大型凹面鏡。

佳能的曝光方式在光學上具有完美對稱的結構，優點是在原理上不會產生因斜射光引起的彗形像差(滲光)，也不會因使用鏡頭的折射光學系統引起光的波長差異進而導致色差(色偏)。在圓弧形的范圍內有著最佳成像特性，再通過掃描該圓弧形的曝光區域即可實現大面積高分辨率性能。