2023年開年以來,我國各地相繼頒布了一系列半導體產業扶持政策,為中國半導體產業發展提供了強有力的政策支持;此外,隨著ChatGPT爆火,AI技術新浪潮開啟又一輪競爭新賽道!半導體作為AI算力核心,成頂層博弈焦點,進一步提振行業復蘇,打開增量空間。可以說,在政策支持、科技公司布局AI大模型等多重利好事件的綜合作用下,我國半導體行業有望在2023年開啟新一輪強勁市場增長!

半導體復蘇拉動下游需求,超純水行業機遇和挑戰并存

在整個半導體產業來看,處于產業鏈最上游的半導體設備產業起著舉足輕重的作用。半導體制造設備有十一類,包括光刻機、過程檢測設備、刻蝕設備、薄膜沉積設備、離子注入設備、CMP設備、清洗設備、氧化退火設備、其它晶圓制造設備九類前道工藝設備,測試設備和封裝設備兩類后道工藝設備。這其中,清洗設備不可或缺,清洗貫穿了芯片制造的全產業鏈,也是重復次數最多的工序。半導體工廠生產和清洗集成電路芯片及封裝、液晶顯示器、高精度電路板、光電器件等各種電子器件的時候,都需要用到超純水。

隨著半導體產業深度復蘇,半導體產能或爆發性增長,隨之而來的就是清洗需求量的同步增加,超純水市場需求將持續攀升!此外,先進制程下晶圓制造循環工序增多,清洗步驟數量也隨之增加。據SEMI統計數據,在80nm~60nm制程中清洗工藝共有約100個步驟,而到了20nm~10nm 制程中清洗工藝增加到200個步驟以上。這也將直接帶動清洗步驟的增加,加速超純水的用量增加!可以說,基于龐大的市場需求,超純水將迎來新一輪發展契機。

超純水行業承接半導體復蘇利好的同時,也面臨兩大挑戰。其一,當集成電路的集成度越高,線寬越窄,對水質的要求也就越高,背后的制備工藝愈加繁復,對超純水系統的要求也更為嚴苛。其二,半導體企業對降本增效、提升水資源利用率的需求,給超純水企業提出了新要求。中國半導體行業吸收了27%的工業用水,而且半導體制程越先進,對超純水的消耗也就越大。高效可靠、以價值賦能的水資源管理方案,不僅可解企業眼前的燃眉之急,更對長期可持續發展具有深遠意義。眾多頭部半導體企業已經意識到此點,超純水企業是否擁有先進的循環再生解決方案,成為半導體企業尋求合作時的重要考量要素。

高頻科技立足先進超純水工藝,助力半導體可持續發展

作為行業領先的本土超純水工藝技術企業,高頻科技專注于芯片、顯示等半導體高端制造業二十多年,為半導體高端制造等行業客戶提供領先的超純水與循環再生解決方案及裝備。高頻科技研發的超純水系統,涉及超過18項專業處理工藝環節,8次增壓提升,以行業性的應用創新成果,保證產水水質接近絕對純度,電導率無限接近18.24MΩ的理論極限值,其純度可達99.9999999999%(PPT級別——萬億分之一),不斷滿足半導體行業日趨提升的用水需求。

除了水質純度要求,超純水系統的穩定同樣對于芯片制造至關重要。高頻科技通過合理的終端材料和規格選擇、系統管路設計的優化,以及應用先進的超純水裝置控制系統,確保超純水系統和水質的穩定,為半導體芯片生產保駕護航。

除此之外,為提升工業用水效能,高頻科技依托自有優秀半導體水系統專家,在確保超純水水質純度穩定達標的基礎之上,研發交付了超過30種可選回用水工藝技術,包括砂濾及碳濾器反洗水回用、砂濾及碳濾器正沖水回用、反滲透濃縮水回用、EDI和UF濃縮水回用、反滲透沖洗水回用、冷卻塔排放水回用、低濃度有機廢水回用等,已實現水制程回收率達75%-90%,助力企業降本增效,實現可持續發展。

半導體產業既是高科技產業的基礎,又是全球經濟最重要的組成部分之一!正因如此,在政策支持方面,多國已將半導體視為戰略發展領域。一方面,半導體行業健康發展,上下游共同成長是關鍵;另一方面,半導體產業而言,超純水的純度是確保高效生產的基石之一,可循環再利用方案是可持續發展的基礎。高頻科技立足高端領先,不斷推進超純水工藝革新,提供高標準、高價值、高效益的解決方案,為半導體產業發展注入驅動力,助推半導體國產化提速前行!